在半導(dǎo)體設(shè)備和制造過程中，部分關(guān)鍵部件既需要耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿，又需要防靜電性能，主要集中在與濕法制程（Wet Process）、化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）、清洗設(shè)備 和 晶圓搬運(yùn)系統(tǒng) 有關(guān)的配件。以下是常見需要雙重性能（防腐蝕+防靜電）的部件類型：電阻10的4次方Ω-10的9次方Ω
? 一、典型部件清單
部件使用場景對防腐要求對防靜電要求
晶圓承載盤（Wafer Boat/Carrier） 濕法蝕刻、清洗 耐HF、H?SO?、KOH 等強(qiáng)腐蝕液體 防止靜電積累損壞晶圓
晶圓夾具（Cassette, FOUP, Reticle Pod） 晶圓搬運(yùn)、儲(chǔ)存 需一定耐化學(xué)性（高潔凈要求） 防止靜電放電（ESD）
化學(xué)藥液泵體/閥門 濕法制程、清洗機(jī) 長期接觸強(qiáng)酸堿（如HF、HCl） 防止靜電打火或吸附顆粒
管路（Tubing）與接頭 藥液輸送系統(tǒng) 耐化學(xué)腐蝕 材料或內(nèi)襯防靜電（避免產(chǎn)生顆粒）
濕法清洗槽內(nèi)襯或托盤 RCA 清洗、BOE 清洗槽等 接觸H?SO?、NH?OH、HF等 防止靜電對晶圓造成擊穿
化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)（CMP）夾具或罩體 CMP 制程 接觸拋光液和酸堿性清洗液 防止靜電積累影響研磨
噴淋臂（Spray Arm）或噴嘴 濕法設(shè)備中藥液噴淋系統(tǒng) 要求耐酸堿且清潔性高 防靜電避免噴射不均勻
電鍍設(shè)備中的導(dǎo)液槽或承載裝置 銅電鍍、鎳電鍍等 接觸含酸或強(qiáng)氧化性液體 防止靜電影響沉積均勻性
晶圓傳送平臺(tái)或機(jī)械手表面材料 多種制程之間的搬運(yùn)系統(tǒng) 需適當(dāng)防腐以抵御殘留化學(xué)品 避免ESD損傷芯片或摻雜結(jié)構(gòu)
? 二、常見材料選擇
為了滿足防腐+防靜電雙重需求，常用的材料包括：
材料類型特點(diǎn)
導(dǎo)電型 PTFE（防靜電PTFE） 加碳黑或金屬氧化物改性，耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿又抗靜電
ECTFE + 防靜電改性 優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性，適用于電鍍槽、化學(xué)槽等
PVDF（聚偏氟乙烯） + 導(dǎo)電填料 耐化學(xué)性好，可抗一定濃度酸堿，常用于泵體
PFA 防靜電級(jí)別 半導(dǎo)體級(jí)耐高溫、耐化學(xué)腐蝕，部分用于晶圓承載
防靜電聚碳酸酯（ESD-PC）或PEEK 適用于設(shè)備外殼、觀察窗，耐腐性能略遜但可工程化
導(dǎo)電陶瓷或涂層（如CrSiN） 對高潔凈度和耐腐蝕/抗靜電有高要求時(shí)使用
? 三、典型應(yīng)用示意
在HF濕蝕刻制程中，晶圓承載盤需使用防靜電PTFE或PFA涂層，防止 HF 腐蝕且避免靜電積聚；
在CMP研磨系統(tǒng)中，晶圓夾具需避免拋光液腐蝕和避免因靜電導(dǎo)致顆粒吸附；
在電鍍制程中，導(dǎo)液系統(tǒng)和載體要兼具防腐蝕能力和導(dǎo)電性，避免沉積異常。
