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產品簡介
日本okamoto岡本半自動CMP化學機械拋光機spp600s
日本okamoto岡本半自動CMP化學機械拋光機spp600s
產品價格:¥0
上架日期:2017-08-02 10:28:19
產地:日本
發(fā)貨地:上海
供應數(shù)量:不限
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詳細說明

    一、設備概要: 

    1. SPP-600S 是半自動通用拋光型設備,不僅可以處理氧化層和金屬膜,而且可以去除晶圓表面損傷層。該機型裝備有兩個拋光頭和一個定盤修正頭,可實現(xiàn)高的吞吐量。它具有獨特的軟件和觸摸屏,使用操作方便。


     二、設備構成:

     1. 拋光頭: 一個定盤,兩個拋光頭同時工作,可實現(xiàn)高的吞吐量; 可獨立編程(包括轉速)并單獨控制每個拋光頭; 夾緊機構為真空吸附固定或利用晶圓表面張力進行固定; 裝備有保護圈以保證均勻性和邊緣輪廓; 拋光壓力基于實時監(jiān)控; 具有擺動功能; 

    2. 定盤: 水冷系統(tǒng)可保證穩(wěn)定運行 

    3. 修整主軸: 裝有專用修整頭; 修整壓力靠頭的自重; 

    4. 外殼: 全密封; 安全互鎖門; 

    5. 觸摸屏: 9.5 寸全彩屏; GUI 操作面板; 4 級程序控制; 

    6. 供液單元: 使用羅拉泵可實現(xiàn)穩(wěn)定供液。 


    三、設備指標: 

    1. 適用晶圓尺寸厚度晶圓尺寸: 3 - 8 英寸

    2. 設備尺寸及重量尺寸: 1380 (W) x 1210 (D)* x 1873 (H) 

    3. 廠務條件電力要求: 10KVA, 200V, 3 Phase, 50/60 Hz 壓縮空氣壓力: ≧5.0 Kg/cm2 去離子水壓力: 1.0-1.5Kg/cm2 去離子水流量: 5 升/分鐘 排氣量: 3m3/分鐘 冷卻水(真空泵用): 壓力:2.0Kg/cm2 流量:大于3 升/分鐘 冷卻水(拋光定盤冷 卻系統(tǒng)用): 壓力:2.0Kg/cm2 流量:大于3 升/分鐘

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