| 產(chǎn)品參數(shù) | |||
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| 二手新柯隆磁控濺射1100C電鍍機(jī)/金屬件電鍍機(jī)/半導(dǎo)體電鍍機(jī)轉(zhuǎn)讓 產(chǎn)品特性 | 磁控濺射機(jī) | ||
| 新舊程度 | 8成新 | ||
| 設(shè)備所在地 | 東莞茶山 | ||
| 設(shè)備生產(chǎn)產(chǎn)地 | 日本 | ||
| 產(chǎn)品數(shù)量 | 3 | ||
| 可售賣地 | 全國 | ||
| 型號 | 1100C | ||
二手SHINCRON新柯隆ras-1100C/CZ濺射鍍膜離子束濺射鍍膜機(jī)/半導(dǎo)體鍍膜/1300MM真空電鍍機(jī)轉(zhuǎn)讓包安裝調(diào)試培訓(xùn)教工藝服務(wù)
銷售技術(shù)楊經(jīng)理：18103045976
一、概述
新科隆 RAS濺射沉積系統(tǒng)是一款高性能、高穩(wěn)定性的濺射沉積設(shè)備，適用于薄膜材料的制備。該系統(tǒng)采用先進(jìn)的濺射技術(shù)，可以實現(xiàn)多種材料的高質(zhì)量沉積，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué)、磁學(xué)等領(lǐng)域。本說明書將詳細(xì)介紹新科隆RAS濺射沉積系統(tǒng)的組成、工作原理、操作方法以及注意事項。
二、系統(tǒng)組成
1.濺射源:包括靶材、離子源、加速器等，用于產(chǎn)生高能離子束。
2.真空系統(tǒng):包括泵、真空室、管道等，用于維持濺射室內(nèi)的低真空環(huán)境。
3.沉積室:包括基板架、樣品室、進(jìn)樣機(jī)構(gòu)等，用于放置樣品和進(jìn)行濺射沉積。
4.控制系統(tǒng):包括計算機(jī)、觸摸屏、PLC等，用于控制整個系統(tǒng)的運行。
5.輔助設(shè)備:包括電源、加熱器、冷卻器等，用于提供濺射過程中所需的輔助條件。
三、工作原理
1.濺射源產(chǎn)生高能離子束，通過加速器加速后，射向靶材表面。
2.離子束撞擊靶材，使靶材表面發(fā)生濺射，靶材表面的原子或分子被濺射出來。
3.濺射出的原子或分子在真空室內(nèi)飛行，并沉積在基板上，形成薄膜。
4.通過控制系統(tǒng)調(diào)整濺射參數(shù)，可以控制薄膜的厚度、成分和結(jié)構(gòu)。
四、操作方法
1.啟動真空系統(tǒng)，將濺射室抽至所需真空度。
2.將靶材安裝在濺射源上，確保靶材表面與濺射源距離適中。
3.將基板放置在基板架上，確?；迮c濺射源距離適中。
4.啟動控制系統(tǒng)，設(shè)置濺射參數(shù)，包括功率、時間、溫度等。
5.啟動濺射源，開始濺射沉積。
6.沉積完成后，關(guān)閉濺射源，等待基板冷卻。
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序號?部件名稱?品牌?型號?數(shù)量
?1?機(jī)械泵組?SHINCRON?MTR-630?1個?
?2?分子泵?OSAKA?TG3451MVWB??2個
?3?深冷?POLY COLD?PFC-670HC?1個
?4?濺射陰極?SHINCRON??2對
?5?濺射電源?AE?PEII-10KW?2個
?6?真空腔室?SHINCRON?1100?2個
?7?ICP?SHINCRON?5KW????1個
?8?轉(zhuǎn)架?SHINCRON?1100?3個
?9?轉(zhuǎn)架推車?SHINCRON?1100?2個
?10?加熱系統(tǒng)?SHINCRON??1個
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