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產(chǎn)品簡介
鑫有研光刻機(lithography)掩模對準曝光機,曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)
鑫有研光刻機(lithography)掩模對準曝光機,曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)
產(chǎn)品價格:¥160000.00
上架日期:2023-12-17 23:45:49
產(chǎn)地:北京北京
發(fā)貨地:北京北京
供應(yīng)數(shù)量:不限
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詳細說明
    產(chǎn)品參數(shù)
    品牌鑫有研








    光刻機(lithography)又名:掩模對準曝光機,曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
    曝光系統(tǒng)最核心的部件之一是紫外光源。
    常見光源分為:
    可見光:g線:436nm
    紫外光(UV),i線:365nm
    深紫外光(DUV),KrF 準分子激光:248 nm, ArF 準分子激光:193 nm
    極紫外光(EUV),10 ~ 15 nm

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