回轉(zhuǎn)窯爐煙氣脫硫脫硝實恒PNCR高分子脫硝設(shè)備
回轉(zhuǎn)窯爐煙氣PNCR高分子脫硝設(shè)備是針對煙氣中的氮氧化物(NOx)超標排放問題而設(shè)計的一種效率高的脫硝設(shè)備。以下是對該設(shè)備的詳細介紹:
PNCR高分子脫硝工藝,即采用粉體氣相智能自動輸送系統(tǒng),將固體高分子還原藥劑通過噴槍(顆粒噴射器)噴入回轉(zhuǎn)窯爐的燃燒室中。在合適的溫度反應(yīng)區(qū)(一般為450℃-1000℃,zui佳為700℃-900℃),高分子還原藥劑升華為NH3,并與NOx發(fā)生還原反應(yīng),生成N2、H2O和少量的CO2,從而達到超低排放指標。更多介紹請關(guān)注本公司網(wǎng)站http://www.btshhb.com
PNCR高分子脫硝設(shè)備主要由以下系統(tǒng)組成: