美國OAI INSTRUMENTS光刻機
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OAI INSTRUMENTS是業(yè)內(nèi)生產(chǎn)可靠并精密設備的MEMS，半導體，納米技術，潔凈室自動化和紫外線光測量的優(yōu)秀制造商。OAI系統(tǒng)可同時用于研發(fā)和生產(chǎn)半導體，MEMS和微流體裝置。從光罩對準和UV光源UV電力儀表，OAI是在同行業(yè)中的領先者超過35年。OAI光功率計以其測量精度，重復性著稱，測量數(shù)據(jù)符合美國NIST標準，廣泛應用于半導體光刻能量測量及控制。
產(chǎn)品范圍：
美國OAI INSTRUMENTS曝光機、OAI INSTRUMENTS光刻機、OAI INSTRUMENTS光源、OAI INSTRUMENTS、OAI INSTRUMENTS光功率計、OAI INSTRUMENTS分析儀
主要型號：
Model 306、Model 308、Model 311、Model 316、Model 317、Model 356、Model 357、Model 358、Model 457、Model 458、Model 459
美國OAI INSTRUMENTS Model 800半自動光刻機簡介：
光刻方式：接近式，軟，硬，真空接觸式
曝光距離：0-3000μm
間隙調(diào)節(jié)步進：1um
機械精度：1.5um
光刻精度：軟接觸2um,硬接觸小于1um
美國OAI INSTRUMENTS Model 6000全自動光刻機技術規(guī)格：
光刻方式：接近式，軟，硬，真空接觸式
曝光分辨率：
真空接觸:0.5-0.8um
硬接觸:0.8-1.0um
軟接觸:1.0-3.0um
接近式(20um 間隙):3.0um
曝光均勻性：優(yōu)于±3%
對準精度：頂面0.5um，底面1.0um（選件）
