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產(chǎn)品簡介
光刻膠與電子束抗蝕劑 硝酸鈰銨
光刻膠與電子束抗蝕劑 硝酸鈰銨
產(chǎn)品價格:¥24
上架日期:2025-06-30 16:52:25
產(chǎn)地:濟寧
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詳細說明
    • 光刻膠與電子束抗蝕劑
      利用硝酸鈰銨的強氧化性,可與聚合物(如聚乙烯醇)反應形成感光材料,在紫外光或電子束照射下發(fā)生氧化交聯(lián),實現(xiàn)圖案化加工,適用于微電子器件的光刻工藝。
    • 硝酸鈰銨在銅刻蝕技術中具有重要應用,主要基于其強氧化性,可將銅氧化從而實現(xiàn)刻蝕。相關介紹如下:

      刻蝕原理:硝酸鈰銨是一種強氧化劑,化學式為 (NH?)?Ce (NO?)??2H?O6。在銅刻蝕過程中,硝酸鈰銨中的 Ce??具有強氧化性,能將銅單質(zhì)氧化為銅離子,自身被還原為 Ce3?,反應方程式可表示為:Cu + 2 (NH?)?Ce (NO?)? = Cu (NO?)? + 2 (NH?)?Ce (NO?)?。

      蝕刻液組成1:硝酸鈰銨可與硫酸等組成蝕刻液,如一種蝕刻鉻銅金屬的蝕刻液中,包含硫酸、硝酸鈰銨、添加劑和水,其中硫酸濃度為 50-400g/l,硝酸鈰銨濃度為 50-500g/l,添加劑濃度為 1-50g/l。

      應用場景:硝酸鈰銨常用于集成電路制造等領域的銅刻蝕工藝。例如在銅互連結構制造中,可采用濕法刻蝕工藝,利用硝酸鈰銨和硝酸的混合液去除相關金屬阻擋層,以便進行后續(xù)的銅電鍍等工藝3。它還可用于印制電路板(PCB)制造中,對銅箔進行刻蝕,形成所需的電路圖案。

      優(yōu)點:硝酸鈰銨參與的刻蝕工藝具有一定優(yōu)勢,如刻蝕速率較快,能夠提高生產(chǎn)效率;可通過調(diào)整蝕刻液成分和工藝條件,較好地控制刻蝕速率和刻蝕精度,滿足精細線路制作的要求。

      注意事項:硝酸鈰銨是強氧化劑,使用時要避免與有機物、還原劑等接觸,以防發(fā)生危險。同時,刻蝕過程中可能會產(chǎn)生一些氮氧化物等有害氣體,需要做好通風等防護措施,確保操作環(huán)境安全。


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