| 詳細(xì)參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | HarmonicDrive | 型號 | SHD-14-50-2SH, |
| 類型 | 諧波減速器 | 載荷狀態(tài) | 中等沖擊載荷 |
| 傳動比級數(shù) | 雙級 | 軸的相對位置 | 立式加速器 |
| 傳動布置形式 | 分流式 | 加工定制 | 是 |
| 樣品或現(xiàn)貨 | 樣品 | 齒面硬度 | 軟齒面 |
| 布局形式 | 三環(huán)式 | 用途 | 變速機 |
| 輸入轉(zhuǎn)速 | 3000rpm | 額定功率 | 360kw |
| 輸出轉(zhuǎn)速范圍 | 47.6rpm | 許用扭矩 | 691N.m |
| 使用范圍 | 化工 | 減速比 | 60 |
| 產(chǎn)地 | 日本 | ||
清洗裝置和測量工具。
盡管半導(dǎo)體制造工藝非常復(fù)雜，哈默納科拋光加工諧波SHD-14-50-2SH 但是產(chǎn)業(yè)界通常將這些復(fù)雜的工藝過程歸納為加法工藝、減法工藝、圖形轉(zhuǎn)移工藝及輔助工藝等工藝過程。
加法工藝。包括摻雜和薄膜工藝，使用設(shè)備主要有擴散爐、離子注入機和退火爐。薄膜工藝包含氧化、化學(xué)氣相淀積、濺射和外延，使用設(shè)備包括氧化爐、CVD反應(yīng)爐、濺射鍍膜機和外延設(shè)備。哈默納科拋光加工諧波SHD-14-50-2SH 摻雜工藝中有擴散和離子注入工藝。
減法工藝。是指刻蝕工藝，包括干法刻蝕和濕法腐蝕，使用設(shè)備包括濕法刻蝕機、反應(yīng)離子刻蝕機。
圖形轉(zhuǎn)移工藝。主要方法為光刻工藝。使用設(shè)備有涂膠和顯影設(shè)備，以及光刻哈默納科拋光加工諧波SHD-14-50-2SH 機。 輔助工藝。主要包括拋光與清洗。拋光一般使用化學(xué)機械平坦化完成拋光工藝，使用設(shè)備有CMP拋光機、硅片清洗機等。
