| 詳細(xì)參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | HarmonicDrive | 型號(hào) | SHA32Y120CG-B12 |
| 類(lèi)型 | 無(wú)級(jí)減速器 | 載荷狀態(tài) | 強(qiáng)沖擊載荷 |
| 傳動(dòng)比級(jí)數(shù) | 雙級(jí) | 軸的相對(duì)位置 | 立式加速器 |
| 傳動(dòng)布置形式 | 分流式 | 加工定制 | 是 |
| 樣品或現(xiàn)貨 | 現(xiàn)貨 | 齒面硬度 | 軟齒面 |
| 布局形式 | 擺線(xiàn)式 | 用途 | 減速機(jī) |
| 輸入轉(zhuǎn)速 | 1450rpm | 額定功率 | 15kw |
| 輸出轉(zhuǎn)速范圍 | 111rpm | 許用扭矩 | 1782N.m |
| 使用范圍 | 工業(yè) | 減速比 | 2432 |
| 產(chǎn)地 | 日本 | ||
為了確保超凈室的清潔度，要使用能夠?yàn)V掉99. 9999%以上的微粒的化學(xué)過(guò)濾器。日本HD高爐加工諧波SHA32Y120CG-B12B2此外，芯片制造環(huán)境的溫度變化和振動(dòng)也會(huì)損害光刻加工時(shí)的對(duì)準(zhǔn)和曝光精度。為了保證曝光機(jī)的納米級(jí)對(duì)準(zhǔn)精度，需要嚴(yán)格控制曝光機(jī)工作環(huán)境的溫度變化，并對(duì)曝光機(jī)安裝基礎(chǔ)進(jìn)行隔振處理。
半導(dǎo)體制造的工程設(shè)備包括凈化室、凈化臺(tái)、晶圓標(biāo)準(zhǔn)機(jī)械接口箱、自動(dòng)搬送設(shè)備和環(huán)境控制設(shè)備（超凈水制造、廢氣處理、廢液處理、精制設(shè)備、分析設(shè)備、探測(cè)器）等。另外還需要一些靜電處理與防護(hù)日本HD高爐加工諧波SHA32Y120CG-B12B2設(shè)備。
（4）半導(dǎo)體芯片制造工藝設(shè)備
從單晶硅片到包含有芯片的成品晶圓是復(fù)雜而漫長(zhǎng)的過(guò)程，日本HD高爐加工諧波SHA32Y120CG-B12B2在這個(gè)過(guò)程使用了大量的設(shè)備，這些設(shè)備包括光刻設(shè)備（曝光、涂膜、顯影、腐蝕設(shè)備等）、清洗設(shè)備、摻雜設(shè)備（離子注入設(shè)備、擴(kuò)散爐等）
