| 詳細參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | HarmonicDrive | 型號 | LA-30B-10-F-L |
| 類型 | 擺線減速器 | 載荷狀態(tài) | 均勻載荷 |
| 傳動比級數(shù) | 單級 | 軸的相對位置 | 立式加速器 |
| 傳動布置形式 | 擺線式 | 加工定制 | 是 |
| 樣品或現(xiàn)貨 | 現(xiàn)貨 | 齒面硬度 | 軟齒面 |
| 布局形式 | 擺線式 | 用途 | 減速機 |
| 輸入轉(zhuǎn)速 | 1450rpm | 額定功率 | 15kw |
| 輸出轉(zhuǎn)速范圍 | 111rpm | 許用扭矩 | 52000N.m |
| 使用范圍 | 機械設備 | 減速比 | 453 |
| 產(chǎn)地 | 日本 | ||
（1）電路設計用設備
半導體芯片中的集成電路需要大量的設計日本HD超凈傳動諧波LA-30B-10-F-L，使用的設計設備包括計算機系統(tǒng)、各種輸入輸出設備和各種軟件等。
（2）制板設備
在半導體芯片制造過程中要使用各式各樣的掩模板日本HD超凈傳動諧波LA-30B-10-F-L。掩模板的制造過程與芯片制造過程類似，也要使用成膜、曝光及刻蝕設備，以及清洗和各種檢驗設備等。掩模板制造所用的圖形設備一般使用電子束掃描曝光設備，在玻璃板的鉻膜上直接刻蝕出可局部透光的掩模圖形。電子束掃描曝光系統(tǒng)采用與電視顯像管原理相似的光柵掃描系統(tǒng)。
（3）半導體工程設備
半導體芯片的加工主要在超凈室進行，超凈室的要求包括：1m3中日本HD超凈傳動諧波LA-30B-10-F-L粒徑在0.1μm以上的浮游微粒數(shù)在10個以下（ISO1級）；溫度保持在（23±1）℃；
