| 詳細參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | HarmonicDrive | 型號 | CSF-17-100-2UH |
| 類型 | 擺線減速器 | 載荷狀態(tài) | 中等沖擊載荷 |
| 傳動比級數(shù) | 三級 | 軸的相對位置 | 立式加速器 |
| 傳動布置形式 | 擺線式 | 加工定制 | 是 |
| 樣品或現(xiàn)貨 | 樣品 | 齒面硬度 | 軟齒面 |
| 布局形式 | 三環(huán)式 | 用途 | 減速機 |
| 輸入轉(zhuǎn)速 | 3000rpm | 額定功率 | 360kw |
| 輸出轉(zhuǎn)速范圍 | 47.6rpm | 許用扭矩 | 691N.m |
| 使用范圍 | 礦產(chǎn) | 減速比 | 454 |
| 產(chǎn)地 | 日本 | ||
半導體制造的主要工藝是在多次重復進行“形成薄膜”、哈默納科烘干機諧波CSF-17-100-2UH“光刻”、“刻蝕”、“擴散”、“注入”和“拋光”等工藝，在重復進行的工藝之間穿插“清洗、熱處理、工藝檢測”等工藝。
（1）擴散 擴散一般認為是進行高溫工藝及薄膜淀積的區(qū)域哈默納科烘干機諧波CSF-17-100-2UH。擴散的主要設(shè)備是高溫
擴散爐和濕法清洗設(shè)備。
（2）光刻 光刻的目的是將電路圖形轉(zhuǎn)移到覆蓋于硅片表面的光刻膠上。光刻膠是一種光敏的化學物質(zhì)，它通過深紫外線（或極紫外線）曝光來印制掩模板的圖像。涂膠和顯影設(shè)備是用來完成光刻的一系列工具的組合哈默納科烘干機諧波CSF-17-100-2UH。光刻過程包括預處理、涂膠、甩膠、烘干，然后用機械臂將涂膠的硅片送入光刻機。以步進式光刻機為例，在進行硅片和掩模板的對準、聚焦后，步進式光刻機先曝光硅片上的一小片面積，隨后步進到硅片的下一區(qū)域并重復這一過程。
