| 詳細參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | HarmonicDrive | 型號 | CSF-17-80-2A-R |
| 類型 | 諧波減速器 | 載荷狀態(tài) | 中等沖擊載荷 |
| 傳動比級數(shù) | 三級 | 軸的相對位置 | 臥式減速器 |
| 傳動布置形式 | 擺線式 | 加工定制 | 是 |
| 樣品或現(xiàn)貨 | 現(xiàn)貨 | 齒面硬度 | 硬齒面 |
| 布局形式 | 三環(huán)式 | 用途 | 減速機 |
| 輸入轉(zhuǎn)速 | 3000rpm | 額定功率 | 111kw |
| 輸出轉(zhuǎn)速范圍 | 47.6rpm | 許用扭矩 | 691N.m |
| 使用范圍 | 化工 | 減速比 | 564 |
| 產(chǎn)地 | 日本 | ||
學(xué)術(shù)或研發(fā)單位中之電路布局較為簡易，harmonic單晶硅諧波傳動CSF-17-80-2A-R 一套電路布局可全部寫在一片光罩中，或甚至多重復(fù)制。加上使用之硅晶圓尺寸較小，配合使用之光罩本來就不大。所以搭配使用之硅晶圓曝光機臺為一般的「光罩對準(zhǔn)機」(maskaligner，如圖2-7)。換言之，一片晶圓只需一次對準(zhǔn)曝光harmonic單晶硅諧波傳動CSF-17-80-2A-R ，便可進行之后的顯影及烤干程序。但在業(yè)界中，使用的晶圓大得多，我們不可能任意造出7吋或9吋大小的光罩來進行對準(zhǔn)曝光：一來電子束書寫機在制備這樣大的光罩時，會耗損巨量的時間，極不劃算；二來，大面積光罩進行光蝕刻曝光前與晶圓之對準(zhǔn)，要因應(yīng)大harmonic單晶硅諧波傳動CSF-17-80-2A-R 面積精密定位及防震等問題，極為棘手！所以工業(yè)界多采用步進機（stepper）進行對準(zhǔn)曝光
