| 詳細(xì)參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | 日立 | 型號 | MC1000 |
| 類型 | 離子濺射儀 | 加工定制 | 是 |
| 用途 | 顯微鏡 | 重量 | 28KG |
| 產(chǎn)地 | 日本 | ||
主要特點(diǎn)：
1. 操作方便且有記憶功能，首chuangLCD觸摸屏控制技術(shù)，可存儲五種處理方案；
2. 通過磁場控制金屬顆粒的濺射噴鍍軌跡，從而使鍍層更均勻；
3. 通過選配測量單元可實(shí)現(xiàn)1nm至30nm的鍍層厚度控制。
日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了電磁管電極，能夠限度地減輕對樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。
日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的樣品直徑：60 mm
日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的樣品高度：20 mm
特點(diǎn)：
采用LCD觸摸屏，可以更加簡便地設(shè)定加工條件
可處理較厚或較大的樣品(選配件)
記憶功能可存儲常用加工條件
規(guī)格：
