| 詳細參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | HarmonicDrive | 型號 | FHA-32C-50-E250- |
| 類型 | 齒輪-蝸桿減速器 | 載荷狀態(tài) | 強沖擊載荷 |
| 傳動比級數(shù) | 雙級 | 軸的相對位置 | 立式加速器 |
| 傳動布置形式 | 擺線式 | 加工定制 | 是 |
| 樣品或現(xiàn)貨 | 樣品 | 齒面硬度 | 軟齒面 |
| 布局形式 | 三環(huán)式 | 用途 | 變速機 |
| 輸入轉(zhuǎn)速 | 1450rpm | 額定功率 | 360kw |
| 輸出轉(zhuǎn)速范圍 | 50rpm | 許用扭矩 | 691N.m |
| 使用范圍 | 化工 | 減速比 | 464 |
| 產(chǎn)地 | 日本 | ||
以光學(xué)紫外曝光為例，首先將硅片定位在光學(xué)系統(tǒng)的聚焦范圍內(nèi)，日本HD三坐標(biāo)諧波FHA-32C-50-E250-C硅片的對準(zhǔn)標(biāo)記與掩模版上相匹配的標(biāo)記對準(zhǔn)后，紫外光通過光學(xué)系統(tǒng)和掩模版圖形進行投影。掩模版圖形若以亮暗的特征出現(xiàn)在硅片上，這樣光刻膠就曝光了。
。該曝光系統(tǒng)包括一個紫外光源、一個光學(xué)系統(tǒng)、一塊由芯片圖形組成的投影掩模版、一個對準(zhǔn)系統(tǒng)和涂過光刻膠的硅片。硅片放在可以實現(xiàn)X、Y、Z、q方向運動的承片臺上，由對準(zhǔn)激光系統(tǒng)實現(xiàn)承日本HD三坐標(biāo)諧波FHA-32C-50-E250-C片臺上的硅片與掩模版之間的對準(zhǔn)，由光源系統(tǒng)、投影掩模版、投影透鏡實現(xiàn)硅片上光刻膠的曝光。曝光過程包括：聚焦、對準(zhǔn)、曝光、步進和重復(fù)以上過程。
光學(xué)曝光技術(shù)經(jīng)歷了不同的發(fā)展階段。按照掩模版與硅片的位置關(guān)系區(qū)分日本HD三坐標(biāo)諧波FHA-32C-50-E250-C，從最初的接觸式曝光，發(fā)展到接近式曝光，直到現(xiàn)在的投影式曝光。曝光光源主要使用紫外光、深紫外光、極紫外光，現(xiàn)今最常用的是：汞燈和準(zhǔn)分子聚光光源。
