俄亥俄州索倫市 – （2020 年 2 月 1 日） – 流體系統(tǒng)產(chǎn)品、組件和相關服務的領先解決方案提供商Swagelok宣布發(fā)布一款適用于高流量應用的新型超高純 (UHP) 閥門 ALD20。自將原子層沉積 (ALD) 閥門技術推向市場以來，Swagelok一直與半導體工具制造商和芯片制造商合作以提供所需的性能，從而與快速變化的工藝要求保持同步。新型 ALD20 閥門是這種合作的最新成果，因此，具有遠見卓識的工藝設計者可以靈活地對低蒸氣壓化學材料進行試驗，而這些材料可能是保持明天競爭優(yōu)勢的關鍵。
ALD20 正在申請專利的設計所提供的流量系數(shù)是當今標準 ALD 閥門技術所能達到的兩到三倍，從而最大限度地提高了生產(chǎn)工藝效率和沉積一致性。它可以在與現(xiàn)有 ALD 閥相同的占用空間 (1.5 in.) 下提供高達 1.2 Cv 的流量，從而使某些用戶無需重裝現(xiàn)有設備或作出其他工藝變更即可提高產(chǎn)量。另一款具有稍大占用空間寬度 (1.75 in.) 的標準版 ALD20 閥門可提供高達 1.7 Cv 的更大流量。還提供定制設置的流量系數(shù)。
ALD20 專為實現(xiàn)峰值工藝一致性而設計，可完全浸入 50°F (10°C) 至 392oF (200oC)的氣箱中，從而增強了熱穩(wěn)定性和沉積均勻性。其閥體還由 316L VIM-VAR 不銹鋼或 哈式22 合金制成的閥體-具有更高的耐腐蝕能力，可以承受腐蝕性介質(zhì)-并采用高度拋光的 5 μin 波紋管。Ra 光潔度支持清潔作業(yè)，可實現(xiàn)長期的工藝完整性。
“ALD20 是對半導體行業(yè)迅猛發(fā)展的需求的直接響應”，Swagelok半導體營銷總監(jiān) Garrick Joseph 表示?！巴ㄟ^與行業(yè)領導者的合作以及流體系統(tǒng)工程專業(yè)知識的應用，我們很榮幸推出了一款可使客戶有效使用前驅(qū)體氣體化學物質(zhì)的產(chǎn)品，以前，人們認為這些物質(zhì)的應用難度太大或成本過高，但其對于下一代芯片技術的開發(fā)可能極為關鍵?！?
ALD20 現(xiàn)已提供帶有兩個或三個端口的模塊化表面安裝配置、帶卡套管對焊和外螺紋或內(nèi)螺紋 VCR® 面密封端接的直通配置以及多孔口閥配置，以優(yōu)化現(xiàn)有或新系統(tǒng)中的流路。高溫光學位置傳感器同樣可作為附加組件提供。